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做为IDM 2.0战略的一部分，Intel上周公布了野心勃勃的产品及技术工艺图，其中先进工艺的升级换代非常激进，不到4年内就要升级5代工艺，而且从2025年开始的新一代工艺开始会首发新一代的EUV光刻机，价格超过19亿一台。
Intel之所以这么激进，是因为在抢先使用EUV工艺上吃过亏，他们原本计划在10nm节点就上EUV工艺的，但是EUV光刻机当时还不成熟，随后被台积电、三星抢先了，阴差阳错之下工艺落后了。
Intel现在的计划是在Intel 4工艺（之前的7nm工艺）中使用EUV光刻机，计划今年下半年投产，首发产品是2023年的14代酷睿Meteor Lake处理器。
现在的EUV光刻机还是NA 0.33技术的，Intel的重点押注在了下一代EUV光刻机，也就是NA 0.55的ASML新一代光刻机，据说成本高达3亿美元，约合19亿元。
实际上4年来Intel实际上已经下单了6台NA 0.55的EUV光刻机，其中分为两种，Twinscan Exe:5000系列主要用于工艺研发，产能输出是185WPH，每小时生产185片晶圆，2023年上半年交付。
量产型的NA 0.55光刻机是Twinscan Exe:5200，产能提升到200WPH，每小时200片晶圆，预计会在2024年下线，Intel的20A工艺正好是在2024年量产。
不过Intel这次抢先下单不怕下代EUV光刻机延期吗？对于这个问题，主管Intel工艺技术的高管Ann Kelleher日前在采访中也谈到了这个可能性，但她表示就算延期了也不会让公司破产，而是有个B计划。
至于Intel的B计划怎么解决新一代EUV光刻机跳票问题的，这就没有明确信息了。
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话题标签：IntelCPU处理器极紫外光刻
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